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雙靶磁控濺射鍍膜儀雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
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單靶磁控光纖繞絲濺射...單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀，專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體，配有帶擋板的觀察窗，可以觀察鍍膜過程，擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽，便于實驗的觀察記錄。腔體上頂開式設計開啟方便，易于清理，十分適合實驗室使用。整機采用模塊化設計，操作邏輯簡單，操作界面直觀，利于上手
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臺式緊湊型三靶磁控濺...CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直流磁控濺射選項可根據要求提供金屬薄膜沉積，實現三個直流、一個射頻/兩個直流和兩個射頻/一個直流濺射頭配置
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雙靶直流磁控濺射鍍膜...雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
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熱絲化學氣相沉積（H...熱絲化學氣相沉積（Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD）擁有工藝成熟，設備簡單等諸多優點，是工業上應用*多的金剛石薄膜制備方法之一。設計用于合成納米金剛石涂層，CVD金剛石薄膜，微晶CVD金剛石涂層，石墨烯，碳納米管（CNTs）和各種其他薄膜涂層
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高真空水冷熱蒸發鍍膜...高真空蒸發鍍膜儀，鎢絲籃（或鎢舟）用作蒸發源，并且樣品臺和蒸發源之間的距離是可調的。 該儀器可以穩定地蒸發金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體，密封性能好，真空性能好。 該腔室配有觀察窗，因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統的**真空10E-5Pa，可有效提高涂層質量，并能滿足大多數蒸發涂層實驗所需的真空環境
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實驗室鋰電池卷對卷加...這種全自動卷繞涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度，從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的。刮刀采用全不銹鋼材質，重量恒定，可提高涂膜的一致性和均勻性。該設備采用具有真空吸附功能的樣品臺，可以平穩的吸附樣品。同時涂布機具有底部加熱功能，加熱溫度可達120℃，在涂膜過程中實現烤膠功能，從而使膜迅速地干燥，方便收卷操作。
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全自動超聲波氣氛加熱...超聲波氣氛加熱勻膠機是一款直徑300mm、靈活的旋轉勻膠設備，可通過超聲波噴頭把膠液噴灑在基片上，進而通過高速旋轉使得膠液均勻涂覆在基片上。加熱勻膠機也可以單獨進行旋涂操作
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透明亞克力勻膠機帶滴...CY-SP4-D勻膠機經過小型化設計，整體采用鋁合金結構，腔體選用透明亞克力，外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機，*高轉速能達到8000轉/秒；控制依靠按鍵和高亮液晶屏，除直接勻膠外還能預存勻膠曲線進行程控勻膠。本儀器在極大的減小了體積的前提下有效的保障了儀器性能和功能，十分適合實驗室選購。
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PE-HPCVD等離...PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐，一套鎢絲蒸發源，一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積適用于無機復合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆。
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