• 10L等離子清洗機 500W/1000W是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激...
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    • 光纖繞絲單靶磁控濺射...
      單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀是一種用于制備薄膜的設備。它可以在基板表面形成均勻、致密、薄且具有特定性質的膜層
      三靶向上磁控濺射鍍膜...
      三靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
      雙靶磁控濺射鍍膜儀
      雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
      單靶磁控光纖繞絲濺射...
      單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀,專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體,配有帶擋板的觀察窗,可以觀察鍍膜過程,擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽,便于實驗的觀察記錄。腔體上頂開式設計開啟方便,易于清理,十分適合實驗室使用。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手
    • 鉆石改色凈化爐
      鉆石改色凈化爐主要應用于鉆石首飾和工業領域。在鉆石首飾方面,改色凈化爐可用于處理色值較差的鉆石,將其變得更亮麗、更具魅力。在工業領域,鉆石改色凈化爐則廣泛應用于電子、光學、化工等領域的相關生產制造
      CVD法培育鉆石
      人造鉆石是一種由直徑10到30納米的鉆石結晶聚合而成的多結晶鉆石,等離子增強化學氣象沉積PECVD合成法制造,人造鉆石主要用于制造切割工具等工業用途上,同樣也被使用在珠寶首飾上
      熱絲化學氣相沉積(H...
      熱絲化學氣相沉積(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)擁有工藝成熟,設備簡單等諸多優點,是工業上應用*多的金剛石薄膜制備方法之一。設計用于合成納米金剛石涂層,CVD金剛石薄膜,微晶CVD金剛石涂層,石墨烯,碳納米管(CNTs)和各種其他薄膜涂層
      CVD培育鉆石設備
      CVD培育鉆石是一種由直徑10到30納米鉆石晶體合成的多結晶鉆石,它的化學成分為碳,運用先進的設備模擬大自然中鉆石生長環境,通過化學氣象沉積技術(CVD)栽種而成
    • 卷繞式高真空蒸發鍍膜...
      卷繞式蒸發鍍膜儀可用于不同種類的材料的薄膜生長,大多數金屬和某些有機材料薄膜,如金屬、半導體、氧化物等
      半導體薄膜電子束蒸發...
      電子束蒸發方式鍍膜設備,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料
      OLED有機無機蒸發...
      六源蒸發鍍膜儀以金屬/有機源蒸發為主體,適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等
      高真空水冷熱蒸發鍍膜...
      高真空蒸發鍍膜儀,鎢絲籃(或鎢舟)用作蒸發源,并且樣品臺和蒸發源之間的距離是可調的。 該儀器可以穩定地蒸發金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體,密封性能好,真空性能好。 該腔室配有觀察窗,因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統的**真空10E-5Pa,可有效提高涂層質量,并能滿足大多數蒸發涂層實驗所需的真空環境
    • 全自動電極鍍膜卷對卷...
      自動卷對卷涂布機主要適用于磷酸鐵鋰、鈷酸鋰、錳酸鋰等體系的正負極鍍膜工藝
      鋰電池專用卷對卷加熱...
      這種全自動卷對卷加熱涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度,從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的
      實驗室鋰電池卷對卷加...
      這種全自動卷繞涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度,從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的。刮刀采用全不銹鋼材質,重量恒定,可提高涂膜的一致性和均勻性。該設備采用具有真空吸附功能的樣品臺,可以平穩的吸附樣品。同時涂布機具有底部加熱功能,加熱溫度可達120℃,在涂膜過程中實現烤膠功能,從而使膜迅速地干燥,方便收卷操作。
      鋰電池隔膜涂布機
      鋰電池隔膜涂布機,可進行連續和間歇涂布等類型的涂布要求。設備涂布精度高,一致性穩定性好,廣泛應用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、光學薄膜、陶瓷薄膜、**膠帶以及各種功能薄膜行業
    • 8寸勻膠機帶6通道獨...
      勻膠機可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領域
      全自動超聲波氣氛加熱...
      超聲波氣氛加熱勻膠機是一款直徑300mm、靈活的旋轉勻膠設備,可通過超聲波噴頭把膠液噴灑在基片上,進而通過高速旋轉使得膠液均勻涂覆在基片上。加熱勻膠機也可以單獨進行旋涂操作
      紫外線光固化勻膠機
      紫外線光固化勻膠機配有紫外線光源,能夠實現對特殊膜料的固化功能,紫外線光固化勻膠機真空吸附固定,操作簡單,可自由取放。
      透明亞克力勻膠機帶滴...
      CY-SP4-D勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,腔體選用透明亞克力,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,*高轉速能達到8000轉/秒;控制依靠按鍵和高亮液晶屏,除直接勻膠外還能預存勻膠曲線進行程控勻膠。本儀器在極大的減小了體積的前提下有效的保障了儀器性能和功能,十分適合實驗室選購。
    • 三溫區PECVD石墨...
      三溫區PECVD廣泛用于石墨烯制備,顆粒包覆等科學實驗上
      熱陰極直流等離子體化...
      熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備(DCCVD)是在常規冷陰極輝光放電基礎上發展起來的,主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積生長
      卷對卷PECVD石墨...
      卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕,超輕、柔性的太陽能電池,以及新型的發光設備和其他薄膜電子產品
      PECVD-R?旋轉...
      本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。
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