• 10L等離子清洗機 500W/1000W是一種小型化、非破壞性的清洗設備。該等離子清洗機采用低氣壓激...
                                          • 本型號勻膠機采用全鋁合金腔體,外觀美觀堅固;腔體上蓋則采用360°可視的有機玻璃設計,便于客戶使用過...
                                          • 感應爐CY-GYL-15是一款頂部帶有真空吸鑄裝置的15KW感應加熱/熔化系統。這種獨特的結構設計通...
                                          • 本產品是一款小型的1100℃布里奇曼晶體生長爐,配有2英寸的石英管,精密提拉機。布里奇曼晶體生長爐用...
                                          • 1700℃管式爐采用高質量硅鉬棒作為加熱元件,加熱溫度可高達1700℃,爐管管徑為50mm,采用高純...
                                          • 雙靶磁控濺射鍍膜儀
                                            雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
                                            單靶磁控光纖繞絲濺射...
                                            單靶磁控光纖繞絲濺射鍍膜儀,專用于光纖制備薄膜,采用不銹鋼高真空腔體,配有帶擋板的觀察窗,可以觀察鍍膜過程,擋板則能有效防止觀察窗被膜層遮蔽,便于實驗的觀察記錄。腔體上頂開式設計開啟方便,易于清理,十分適合實驗室使用。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手
                                            臺式緊湊型三靶磁控濺...
                                            CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統,主要用于多層氧化物薄膜,是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直流磁控濺射選項可根據要求提供金屬薄膜沉積,實現三個直流、一個射頻/兩個直流和兩個射頻/一個直流濺射頭配置
                                            雙靶直流磁控濺射鍍膜...
                                            雙靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該雙靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備
                                          • CVD法培育鉆石
                                            人造鉆石是一種由直徑10到30納米的鉆石結晶聚合而成的多結晶鉆石,等離子增強化學氣象沉積PECVD合成法制造,人造鉆石主要用于制造切割工具等工業用途上,同樣也被使用在珠寶首飾上
                                            熱絲化學氣相沉積(H...
                                            熱絲化學氣相沉積(Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD)擁有工藝成熟,設備簡單等諸多優點,是工業上應用*多的金剛石薄膜制備方法之一。設計用于合成納米金剛石涂層,CVD金剛石薄膜,微晶CVD金剛石涂層,石墨烯,碳納米管(CNTs)和各種其他薄膜涂層
                                            CVD培育鉆石設備
                                            CVD培育鉆石是一種由直徑10到30納米鉆石晶體合成的多結晶鉆石,它的化學成分為碳,運用先進的設備模擬大自然中鉆石生長環境,通過化學氣象沉積技術(CVD)栽種而成
                                            MPCVD單晶鉆石沉...
                                            化學氣相沉積法制備高品質單晶鉆石,化學氣相沉積法制備高品質多晶鉆石自支撐厚膜,化學氣相沉積法制備高品質多晶鉆石薄膜
                                          • OLED有機無機蒸發...
                                            六源蒸發鍍膜儀以金屬/有機源蒸發為主體,適用于實驗室制備金屬單質、氧化物、介電質、半導體膜等
                                            高真空水冷熱蒸發鍍膜...
                                            高真空蒸發鍍膜儀,鎢絲籃(或鎢舟)用作蒸發源,并且樣品臺和蒸發源之間的距離是可調的。 該儀器可以穩定地蒸發金屬和某些有機物。 采用高真空不銹鋼腔體,密封性能好,真空性能好。 該腔室配有觀察窗,因此可以看到涂層過程。 采用分子泵系統的**真空10E-5Pa,可有效提高涂層質量,并能滿足大多數蒸發涂層實驗所需的真空環境
                                            三源高真空蒸發鍍膜儀
                                            三源高真空蒸發鍍膜儀應用領域: 金屬和介電膜 薄膜傳感器的制造 光學元件 納米與微電子 太陽能電池
                                            5英寸近距離蒸發鍍膜...
                                            5英寸近距離蒸發鍍膜爐適用于薄膜太陽能電池,如CdTe.硫化物和鈣鈦礦結構太陽能電池,這是一款理想的實驗工具
                                          • 全自動電極鍍膜卷對卷...
                                            自動卷對卷涂布機主要適用于磷酸鐵鋰、鈷酸鋰、錳酸鋰等體系的正負極鍍膜工藝
                                            鋰電池專用卷對卷加熱...
                                            這種全自動卷對卷加熱涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度,從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的
                                            實驗室鋰電池卷對卷加...
                                            這種全自動卷繞涂布機主要用于實驗室涂布液體或膠體膜。該設備采用無級變速電機**控制涂膜速度,從而達到使樣品勻速前進而均勻涂膜的目的。刮刀采用全不銹鋼材質,重量恒定,可提高涂膜的一致性和均勻性。該設備采用具有真空吸附功能的樣品臺,可以平穩的吸附樣品。同時涂布機具有底部加熱功能,加熱溫度可達120℃,在涂膜過程中實現烤膠功能,從而使膜迅速地干燥,方便收卷操作。
                                            鋰電池隔膜涂布機
                                            鋰電池隔膜涂布機,可進行連續和間歇涂布等類型的涂布要求。設備涂布精度高,一致性穩定性好,廣泛應用于鋰離子電池、石墨烯薄膜、光學薄膜、陶瓷薄膜、**膠帶以及各種功能薄膜行業
                                          • 8寸勻膠機帶6通道獨...
                                            勻膠機可以將液態或膠體材料涂覆在硅片、晶體、石英、陶瓷等基片上形成薄膜,主要應用于光刻膠旋涂、生物培養基制作、溶膠凝膠法制作高分子薄膜等領域
                                            全自動超聲波氣氛加熱...
                                            超聲波氣氛加熱勻膠機是一款直徑300mm、靈活的旋轉勻膠設備,可通過超聲波噴頭把膠液噴灑在基片上,進而通過高速旋轉使得膠液均勻涂覆在基片上。加熱勻膠機也可以單獨進行旋涂操作
                                            紫外線光固化勻膠機
                                            紫外線光固化勻膠機配有紫外線光源,能夠實現對特殊膜料的固化功能,紫外線光固化勻膠機真空吸附固定,操作簡單,可自由取放。
                                            透明亞克力勻膠機帶滴...
                                            CY-SP4-D勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,腔體選用透明亞克力,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,*高轉速能達到8000轉/秒;控制依靠按鍵和高亮液晶屏,除直接勻膠外還能預存勻膠曲線進行程控勻膠。本儀器在極大的減小了體積的前提下有效的保障了儀器性能和功能,十分適合實驗室選購。
                                          • 熱陰極直流等離子體化...
                                            熱陰極直流等離子體化學氣相沉積設備(DCCVD)是在常規冷陰極輝光放電基礎上發展起來的,主要用于金剛石單晶或多晶膜的沉積生長
                                            卷對卷PECVD石墨...
                                            卷對卷PECVD石墨烯制備設備主要應用于計算機和智能手機屏幕,超輕、柔性的太陽能電池,以及新型的發光設備和其他薄膜電子產品
                                            PECVD-R?旋轉...
                                            本產品為PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備。PECVD-R?旋轉等離子加強CVD設備十分適合在氣氛保護的環境下連續對粉末材料用CVD方法進行包裹和修飾。
                                            PE-HPCVD等離...
                                            PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積由一臺雙溫區管式爐,一套鎢絲蒸發源,一套等離子發生裝置以及一套質量流量計組成。PE-HPCVD等離子增強物理化學氣相沉積適用于無機復合粉末的熱處理及粉末表面的均勻包覆。
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                                          • 移動電話 : 138 3718 9935
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                                          • Email : wjb@cykeyi.com
                                          • 郵編 : 450000
                                          • 公司網址 : http://www.synergiambiente.com
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