- 磁控濺射鍍膜儀
- 培育鉆石
- 熱蒸發鍍膜儀
- 涂布機
- 可編程勻膠機
- PECVD氣相沉積系統
- 二合一鍍膜儀
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 等離子鍍膜儀
- 熱解噴涂
- 電子束，激光鍍膜儀
- 等離子清洗機
- CVD氣相沉積系統
- 多弧離子鍍膜儀
- 金剛石切割機
- 真空管式爐
- 立式管式爐
- 晶體生長爐
- 旋轉管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 快速退火爐
- 石墨烯制備
- 高溫熔煉爐
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 二硫化鉬制備
- 混料機設備
- 真空手套箱
- 粉末壓片機
- 真空熱壓機
- 區域提純爐
- 微波燒結爐
- UV光固機
- 注射泵
- 實驗室產品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 氣體分析儀
- 提拉涂膜機
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環境模擬試驗設備
- 其他產品
CY-1100X-SPC16M磁控濺射鍍膜儀的特點
1：設有真空表、濺射電流表，可實時監控設備工作狀態。
2：可通過調節濺射電流控制器和微型真空閥來控制真空室壓強、電離電流，以獲得*佳鍍膜效果。
3：真空室石英腔體邊緣的橡膠密封圈采用了特殊設計，得以保證真空室長期使用且不出現崩邊現象。
4：用更加經久耐用的陶瓷橡膠密封圈取代了通常用的橡膠密封。
5：采用了大容量濺射真空室和相應面積的濺射靶，是濺鍍出的膜層更加均勻純凈。
6：濺射頭采用了特殊的制冷技術，可以得到高性能、精細顆粒的圖層。
7：可用水冷濺射頭、水冷載物臺。
技術參數
|
產品型號 |
CY-1100X-SPC16M |
|
電源 |
220V 50Hz |
|
靶材直徑 |
50mm |
|
樣品臺直徑 |
50mm |
|
真空室尺寸 |
Φ50mm |
|
*高真空度 |
4×10-2torr |
|
*大電流 |
50mA |
|
可設定*長時間 |
9999s |
|
微型真空氣閥 |
連接φ3mm軟管 |
|
*高電壓 |
1600V DC |
|
機械泵流量 |
2L/s |
|
產品尺寸 |
360×300×380 |
|
標準配件 |
金靶材1個，進氣針閥1個，保險絲2個 |
|
可選配件 |
Au、In、Ag、Pt等各種靶材 |
|
包裝 |
三合板木質包裝 |
