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產品簡介：CY-600-3HD三靶磁控濺射儀是我公司自主研制開發的一款性價比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。
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產品型號 |
三靶磁控濺射儀（CY-600-3HD） |
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安裝條件 |
本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設備配有自循環冷卻水機（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設備腔室內需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶?6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風裝置：需要 |
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主要特點 |
1、配置三個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜（靶槍可以根據客戶需要任意調換）。 2、可制備多種薄膜，應用廣泛。 3、體積小，操作簡便。 4、整機模塊化設計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據用戶實際需要調整購買需求。 5、可根據用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍。 |
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技術參數 |
1、電源電壓：220V 50Hz 2、總功率：2.5KW 3、極限真空度：< E-6mbar（配合本公司設備使用可達到 E-5mbar） 4、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據實際需要提升溫度） 5、靶槍數量：3個 6、靶槍冷卻方式：水冷 7、靶材尺寸：?2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率：500W（可選） 9、射頻濺射功率：300W/500W（可選） 10、載樣臺：?140mm 11、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內可調 12、保護氣體：Ar、N2等惰性氣體 13、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，每個流量為100SCCM |
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產品規格 |
主機尺寸：500mm×560mm×660mm，整機尺寸：1300mm×660mm×1200mm；重量：160kg |
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標準配件 |
1 |
直流電源控制系統 |
2套 |
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2 |
射頻電源控制系統 |
1套 |
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3 |
膜厚監測儀系統 |
1套 |
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4 |
600分子泵組 |
1臺 |
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5 |
工業級水冷機 |
1臺 |
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6 |
冷卻水管（?6mm） |
4根 |
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可選配件 |
金、銦、銀、白金等各種靶材 |
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