產品名稱：大功率直流磁控濺射鍍膜儀

大功率直流磁控濺射鍍膜儀產品內容：

大功率直流磁控濺射鍍膜儀包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺。水冷靶頭使鍍膜后的樣品表面不會因鍍膜溫度過高而變形，甚至損壞樣品；樣品臺可旋轉，可以使樣品邊旋轉邊鍍膜使鍍膜后的樣品表面膜后均勻。設備外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵搭配設備使用。

大功率直流磁控濺射鍍膜儀技術規格：

輸入電壓	220 C 50/60Hz ,使用1000 W變壓器（15 A保險絲）可獲得110 V電源
輸出功率	1600 VDC 250 W 150 mA max. 內置過流保護(>150 mA)
樣本室	石英玻璃管, 165 mm外徑×150 mm內徑×250 mm高度
濺射頭和樣品臺	包括2"帶水冷套的柔性磁控濺射頭。 一個直徑50 mm的不銹鋼樣品臺可在0-5 RPM范圍內旋轉。 一個手動操作的遮板用于保護靶。 濺射頭支架可用于在非操作時保持濺射頭。 濺射頭和樣品臺之間的距離可在60-100mm之間調節。 Max涂層面積: 4"直徑max.  一個 空氣冷循環冷水機組10 L / min流量，包括冷卻濺射頭。
控制面板	6“彩色觸摸屏控制面板，PLC集成，操作簡便 所有參數監視和控制的一個面板：真空，電流。
極限真空壓力	內置KF25真空端口 該系統需要帶有壓力調節器的Ar氣罐。（不包含） 用于Au、Ag、Pt、Cu、Mo靶的Vane真空泵（不包括） <1.0E-2 Torr （對空氣不敏感） 渦輪分子泵（不包括） <1.0E-5 Torr   用于Al、Mg、Li、Lr、Ti、Zn靶（對空氣敏感） 通過連續抽吸和烘烤，zui低真空可達到<4.0E-6托
氣氛	安裝一個針閥，允許Ar氣體入口實現更好的等離子涂層 該系統需要帶有壓力調節器的Ar氣罐（不包括在內）
靶	包括一個2英寸銅靶用于測試，目標尺寸：2英寸直徑×2.5mm。 它還可以涂覆Ag，Al，Cr，Ni，Pt，Ti，Sn，Li，Mg 等幾乎所有種類的金屬材料。   警告：本機可以涂覆鋁，鉻或鎳靶 ，但在使用前請查看推薦涂層方法。 請使用RF等離子體磁控濺射涂覆氧化鋁
整體尺寸	L 440 mm×W 330 mm × H 290 mm
凈重	20 kg
售后服務	貨物發出后，CYKY提供一年免費售后服務，服務方式限于電話指導、視頻指導、郵件指導、配件郵寄等遠程技術支持。如需要派人現場服務，客戶需要支付服務人員差旅費和出差期間的工資。

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