產品名稱：3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀

3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀應用領域：

這款緊湊型3靶磁控濺射鍍膜機專為在氧化物單晶基板上涂覆氧化物薄膜而設計，通常不需要高真空設置。

3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀技術規格：

輸入功率	單相220 VAC, 50 / 60 Hz 1000 W (包括真空泵和水冷機組) 如果電壓為110 V,可以在CYKY訂購1500 W變壓器
電源	包括13.5 MHz，100 W帶手動匹配的RF發生器并連接到濺射頭。 負載范圍：0 - 80Ω可調，調節范圍：-200j - 200j可調。 可旋轉開關可一次激活一個濺射頭。濺射頭可以“在等離子體中”切換（在多層工藝期間不會破壞真空和等離子體）。 使用直流電源，涂膜機可輕松修改為1“直流濺射源，用于金屬薄膜沉積，可實現三個直流，一個射頻/兩個直流和兩個射頻/一個直流濺射頭配置 。
磁控濺射頭	包括三個帶水冷套的1“磁控濺射頭，并通過快速夾具插入石英腔。 法蘭上安裝了一個手動操作的擋板。 包括一臺10 L / min數控循環冷水機組，用于冷卻濺射頭。
濺射靶	靶尺寸要求：zui大1’’直徑×1/8’’厚度 濺射距離范圍：50-80 mm可調 濺射角度范圍：0-25°可調 包括1’’直徑Cu靶和Al2O3靶用于演示測試 可根據要求提供各種氧化物1“濺射靶，需額外付費 對于靶的粘合，包括1 mm和2 mm銅背板
真空室	真空室：外徑256 mm×238 mm內徑×276 mm高度，由高純度石英制成 密封法蘭：直徑274 mm。由鋁制成，帶有高溫硅膠O形圈 包括不銹鋼屏蔽罩，用于100％屏蔽來自腔室的RF輻射 *大真空度：1.0E-5 Torr，可選配渦輪泵和腔室烘烤
樣品架	樣品架是一個可旋轉且可加熱的平臺，由帶有不銹鋼蓋的陶瓷加熱器制成 樣品架尺寸：50 mm直徑2”晶圓max 轉速：1-10 rpm可調，均勻涂層 支架溫度可在zui高溫度范圍內調節至600℃（600℃可達5分鐘; 500℃可達2小時），精度為+/- 1.0℃，通過數字溫度控制器
真空泵	內置KF40真空端口，用于連接真空泵。 真空度：1.0E-2托，附帶雙級機械泵。 1.0E-5托可選配渦輪泵 。
尺寸	540 mm L×540 mm W×1000 mm H
凈重	60 kg
售后服務	貨物發出后，CYKY提供一年免費售后服務，服務方式限于電話指導、視頻指導、郵件指導、配件郵寄等遠程技術支持。如需要派人現場服務，客戶需要支付服務人員差旅費和出差期間的工資。

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