產品名稱：雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀

雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀主要特點：

1、配置兩個靶槍，一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜，一個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜，應用廣泛。
3、體積小，操作簡便。

雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀技術規格：

輸入功率	單相220 VAC 50 / 60 Hz, 2000 W (包括真空泵和冷水機組)
電源	兩個濺射電源集成在一個控制箱中。 直流電源：用于涂覆金屬材料的500 W功率。 射頻電源：300 W功率，13.56 MHz頻率，用于涂覆非導電材料。
磁控濺射頭	包括兩個帶有水冷套和百葉窗的2“磁控濺射頭。 此產品頁面中還提供了一個濺射頭型號（在產品選項中）。 一個連接到 直流電源以涂覆金屬材料 另一個連接到用于非導電材料的RF源 靶尺寸要求：2“直徑 厚度范圍：0.1 - 5 mm，適用于金屬和非導電目標（包括背板） 包括一個不銹鋼靶目標和一個研究級Al2O3靶 用于樣品測試 定制涂膜機：兩個不帶射頻的直流頭; 兩個沒有DC的RF頭; 可根據要求提供3個RF頭。
真空室	真空室：直徑300毫米×300 mm高度，由不銹鋼制成 視口：兩片100毫米直徑玻璃。一個固定；一個可拆卸清潔和更換 帶氣動電源桿的鉸接式蓋子可輕松更換靶
樣品臺	樣品架是可旋轉且可加熱的臺架，由帶銅蓋的陶瓷加熱器制成 樣品架尺寸：140 mm直徑對于4"晶圓max 轉速：1 - 20 rpm可調，均勻涂層 通過數字溫度控制器，支架溫度可在*高溫度范圍內調節至zui高500°C（max2小時），精度為+/- 1.0°C
氣體流量控制	安裝了兩個精密質量流量控制器（MFC），允許兩種類型的氣體進入   流量: 0 – 200 mL/min可在觸摸屏控制面板上調節 安裝進氣閥以進行真空釋放
真空泵站	包括移動泵站，濺射涂膜機可以放置在工位底部 速度為80L/S的高速渦輪泵  與兩級機械泵（220 L / min）相結合，可實現更大真空水平和更快的抽速。 與腔室連接的標準真空度：<4.0E-5 Torr。（帶腔室烘烤的1.0E-6托）。
水冷裝置	包括一個數字溫控循環冷水機組  制冷范圍: 5~35 °C 流速: 16 L/min 泵壓: 14 psi
整體尺寸	蓋子關閉: 48" × 28" × 32"       蓋子打開: 48" × 28" × 37"
凈重	160 kg
售后服務	貨物發出后，CYKY提供一年免費售后服務，服務方式限于電話指導、視頻指導、郵件指導、配件郵寄等遠程技術支持。如需要派人現場服務，客戶需要支付服務人員差旅費和出差期間的工資。

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