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該設備以電子束蒸發方式鍍膜設備，主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，微納器件微加工，電鏡樣品預處理等，尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底，也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜.
電子束蒸發鍍膜儀技術參數：
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產品名稱 |
電子束蒸發鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-X-EIB500 |
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使用條件 |
環境溫度5～40℃ |
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電源 |
三相380V |
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電壓 |
220V 50HZ |
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功率 |
<20千瓦 |
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水壓 |
<2.5bar |
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鍍層監控 |
采用SQM160膜厚儀進行監控，涂層厚度不均勻度小于6%。 |
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加熱燈 |
4只鹵素加熱燈用于除氣，1個氖燈用于照明 |
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電極接口 |
9、帶2路金屬蒸發電極接口，備用 |
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水冷系統 |
水壓監測 |
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觀察窗 |
直徑100mm，帶X光濾光玻璃 |
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控制系統 |
觸屏系統 |
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真空室尺寸 |
蒸發室尺寸：Φ500*H500mm |
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電子槍 |
新型電子槍，6孔坩堝 |
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樣品轉盤 |
樣品尺寸：<150mm，樣品臺可旋轉，樣品臺表面與電子槍表面距離上下調節，調節距離為200mm-250mm，樣品臺可加熱，加熱溫度<500℃。 |
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系統真空度 |
A、極限真空：烘烤12～24小時，連續抽氣，真空小于5x10-5Pa B、抽氣速率：從大氣開始， 40 分鐘內真空 < 5x10-4Pa C、系統泄漏率：關機12小時后，測量真空室真空度<10Pa |
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真空機組 |
FB1200分子泵+VRD-16前級泵+旁抽閥+閘板閥+切斷閥+復合真空計+鍍膜監測真空計接口（備用） |
